ADEPT-1010 專為淺層半導(dǎo)體注入和絕緣薄膜的自動分析而設(shè)計(jì)，是大多數(shù)半導(dǎo)體開發(fā)和支持實(shí)驗(yàn)室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學(xué)系統(tǒng) 和超高真空設(shè)計(jì)，提供了薄膜結(jié)構(gòu)檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。

產(chǎn)品型號：PHI ADEPT010

更新時(shí)間：2025-10-20

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同位素質(zhì)譜儀

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DSIMS技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)元素分析？

根據(jù)微區(qū)分析能力和數(shù)據(jù)處理方式，二次離子質(zhì)譜儀可分為哪幾種類型？

應(yīng)用分享 | HAXPES∣多層結(jié)構(gòu)器件界面的無損深度分析案例

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　　動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry，簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術(shù)。

　　ADEPT-1010 專為淺層半導(dǎo)體注入和絕緣薄膜的自動分析而設(shè)計(jì)，是大多數(shù)半導(dǎo)體開發(fā)和支持實(shí)驗(yàn)室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學(xué)系統(tǒng) 和超高真空設(shè)計(jì)，提供了薄膜結(jié)構(gòu)檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。

　　工作原理：

　　動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面，使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個(gè)過程中，部分濺射出的粒子會帶電，形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸?shù)劫|(zhì)譜儀中進(jìn)行分析，通過質(zhì)譜分析可以確定樣品的化學(xué)組成和元素分布。

動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀